电子束蒸发可以想象成超高温的热蒸发过程，与SPUTTER磁控溅射，是两种最常见的物理气相沉积(PVD)之一。 藉由引入电子束将大量能量直接输送到源材料中，使得金属和介电材料（例如，金和二氧化硅）能够分别在极高的熔化温度下蒸发。

 

电子束蒸发原理是，蒸发材料放入水冷铜炉或坩埚中，并通过聚焦电子束加热。电子束产生的热量使材料蒸发，然后沉积在基片上，形成所需的镀膜。

 

因此，其可以沉积采用标准电阻热蒸发无法蒸发的材料。电子束蒸发的另一个好处是，沉积速率高于溅射或电阻蒸发速率。

 

电子束蒸发用于沉积各种材料。电子束蒸发通常用于光学镀膜应用，例如，激光光学和太阳能电池板，眼镜和建筑玻璃，提供所要求的光学、电学和机械质量。与其他PVD工艺相比，电子束蒸发提供更高的材料利用效率，并降低成本。

 

铠柏科技有限公司的电子束蒸发系统配有可编程控制，可以自动做多层膜蒸发，可以提供多坩埚电子束蒸发源，依次蒸发不同的蒸发材料，而不破坏真空。系统配置有用于单层膜和多层膜自动工艺控制的镀膜沉积控制器。

 

电子束蒸发可控、可重复，并且兼容使用离子辅助源，增强人们期望的镀膜特性性能。我们在金属化、剥离和精密光学镀膜提供交钥匙工艺解决方案方面拥有20多年的经验。

 

 

我们产品的主要特点：

 

1、基片台可定制，单片或多片。

2、具有内腔屏蔽的矩形SS316L电抛光室，腔体适中。

3、本底真空10-7 Torr，可使用冷泵或者大抽速分子泵，抽气速度快。

4、超高真空泵和量规。

5、6×3行星样品操纵台（自转和公转）。

6、样品架有几种可以供客户选择：1、单坩埚，只能自转。2、多坩埚（1~6），可行星式旋转。

7、选择可倾斜的样品架（此技术本公司独有）。

8、坩埚防污染设计；

9、石英红外加热灯，样品可旋转并加热至：300℃/500℃/800℃；在特殊情况下可保证样品不超过80摄氏度，对工艺要求比较严苛使用者来说非常重要，因为光刻胶遇到高温会起泡，所以希望温度越低越好。适用于金属沉积，金属剥离工艺。

10、具有多种靶材坩埚的电子束源。可配备单或双电子束源。每个电子束源可安装有多个靶材料坩埚，其最多可存储6种靶材料。2个电子束源，可以同时沉积2种不同的材料到您的衬底上。它还可以用于高熔点温度元素沉积。此外，还配备有旋转和自转多个样品的样品行星机构，可以在许多衬底上精确和同时沉积，而且显著改善沉积薄膜的均匀性和质量。

11、电子枪可选用日本爱发科，美国泰利玛，双晶振可以减少因晶振失误导致的样品报废的困扰。12、我们有双电子束或单电子束热蒸发联用系统。

13、厚度监控器。

14、FBBeam系统控制软件使过程自动化，从而实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR，提供完整的数据记录，精确的参数调整，以及沉积过程的自动参数设置。这使得沉积过程易于操作、完全自动化、用户友好、一致，并且将提供可靠的实验重复性。

15、可配备离子束辅助沉积；

16、可配备快速进样室；

17、可与手套箱集成；

18、可根据用户要求将其它镀膜技术与电子束蒸发集成，例如磁控溅射，热蒸发等。

 

应用：

 

电子束蒸发可生长的材料包括：金属(Al、Nb、Ge等)、电介质、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半导体和几种合金等。