设备名称：双腔体约瑟夫森结制备专用机 JEB-2

JEB-2可以简单的利用两个腔体，实现镀膜与氧化的功能。样品座可以实现倾斜与旋转的功能。离子洗装在进样室的下方，氧化可以有动态氧化与静态氧化两种方式，客户可选择全手动或者是全自动电脑控制。

 

JEB-2是台湾铠柏为了量子计算所推出的电子束蒸发设备, 适用于最高端客户的应用尤其适合量子计算铝或是铌材料,JEB的腔体适中; 可以做双倾角带旋转应用。

 

样品加载速度快三十分钟就可以开始镀膜, 全自动镀膜只需要放入载片按下“开始”就可以交给系统自动完成工作。

 

样品可以旋转以及做双倾角75度的调整工作以符合各种工作的可能性。

 

JEB系列搭配进样室做离子清洗加热除水气的功能。

 

 

技术参数：

Vacuum Chamber: 316不锈钢圆柱形腔体，最低outgas的不锈钢材料；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 全自动传样片,适合各种形状尺寸的小破片到100mm大的圆片，高真空背景传递；
Process Control: PC Labview自动控制界面，菜单控制，数据获取和远程控制 ；
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚监控；
RGA残余气体分析；
Substrate Fixture: 单片，多片，行星式衬底夹具；
Substrate Holders: 可加热，冷却，旋转；倾角；
Ion Source: 衬底预清洗，纳米表面改性。

Deposition Techniques:
Electron Beam Evaporation，电子束蒸发；
Tilt Angle Depostion ,倾斜角沉积